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热解石墨沉积炉
热解石墨沉积炉
产品描述:
用于石墨、半导体器件、耐热冲刷材料的表面热解石墨涂层或生长。
应用范围:
PG坩埚、PG板材、蒸镀用坩埚、LEC坩埚、离子注入组件等。产品纯度≥99.999%/99.9999%。

热解石墨沉积炉技术特征

电阻炉可采用多温区独立控温,温度均匀性好;

采用智能压力调控,压力波动小;

全封闭沉积室,密封效果好,抗污染能力强;

多通道工气路,流场均匀,无沉积死角,沉积效果好;

多级高效尾气处理系统,环境友好,易清理;

可选配外循环快冷系统,降温时间短,生产效率高;

适于工艺气氛:真空/CH4/C3H6/H2/N2/Ar。


热解石墨沉积炉产品规格

参数\型号VCVD-0305-CVCVD-0505-CVCVD-0608-CVCVD-0612-CVCVD-0812-CVCVD-1120-CVCVD-1218-CVCVD-1520-C
工作区尺寸 φ×H(mm)300×500500×500600×800600×1200800×12001100×20001200×18001500×2000
最高温度(℃)2000/2300
温度均匀性(℃)±5±5±5/±7.5±7.5/±10±7.5/±10±10/±15±10/±15±15/±20
极限真空度(Pa)1-100
压升率(Pa/h)0.67
加热方式电阻/感应

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

热解石墨沉积炉配置选择

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